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光催化材料生產(chǎn)方法和光催化材料生產(chǎn)設(shè)備

來源:中國凹凸棒土網(wǎng)    01-31 07:04
本發(fā)明提供新的光催化材料生產(chǎn)設(shè)備和光催化材料生產(chǎn)方法,所述設(shè)備和方法能夠通過在高場等離子體中,在高氧化性、高濃度臭氧介質(zhì)狀態(tài)下生產(chǎn)大量高品質(zhì)光催化材料,而不是采用傳統(tǒng)的干沉積方法通過PVD和CVD系統(tǒng)產(chǎn)生光催化材料。在依據(jù)本發(fā)明的光催化材料生產(chǎn)方法和光催化材料生產(chǎn)設(shè)備中,通過放電間隙中的電介質(zhì)材料提供一對(duì)相對(duì)的電極,向放電間隙中提供主要含氧氣的氣體,在兩個(gè)電極之間施加AC電壓,在放電間隙中產(chǎn)生電介質(zhì)阻擋放電(無聲放電或蠕緩放電)。因此,產(chǎn)生含臭氧氣體的氧氣,通過電介質(zhì)阻擋放電將金屬或金屬化合物改性為光催化材料。
申請(qǐng)?zhí)?shy;
CN200580049102
申請(qǐng)日
2005.07.15
公開(公告)號(hào)­
CN101142022A
公開(公告)日
2008.03.12
IPC分類號(hào)
B01J35/02; C01B13/11; B01J37/34; B01J19/08
申請(qǐng)(專利權(quán))人
東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會(huì)社;
發(fā)明人
田畑要一郎;西津徹哉;沖原雄二郎;植田良平;
優(yōu)先權(quán)號(hào)
 
優(yōu)先權(quán)日
 
申請(qǐng)人地址
日本東京;
CPC分類號(hào)
 

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